Esta semana, en la conferencia SPIE Photomask Technology + Extreme Ultraviolet Lithography, Intel Foundry y ASML destacaron los continuos avances para llevar a producción la litografía ultravioleta extrema (EUV) de alta apertura numérica (High-NA) y el desarrollo de las tecnologías que darán forma a su futura adopción. En concreto, Intel Foundry y ASML compartieron las […]Leer más
